cmp抛光材料的上市公司

研磨盘起到对晶圆的支撑作用，承载抛光垫并带动其转动，并对抛光头压力大小转动速度开关动作等进行控制清洗刷用于CMP后清洗环节，去除颗粒和其他化学污染物，分为清洁冲洗干燥环节，保证晶圆干进干出终点检测设备用于检测CMP工艺是否把材料磨到正确的厚度，避免过薄未起到抛光作用及。

成为CMP抛光液研发的核心工具，助力国内企业突破技术瓶颈，实现高端抛光材料的自主可控。